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物理气相沉积复合超硬涂层技术

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物理气相沉积复合超硬涂层技术

发布日期:2018-05-03 00:00 来源:http://www.shanghaihuizhong.com 点击:

真空钨丝炉1.png

在物理气相沉积中,由于电弧离子镀的金属离化率高,容易进行反应沉积,沉积速率高,是沉积复合涂层的主要技术之一。但涂层组织中有较大的熔滴,难于沉积较均匀涂层。磁控溅射的沉积速率比电弧离子镀小,金属离化率低,沉积化合物涂层的难度较大,但涂层组织细密,可以将晶格的周期调制得更小,从而获得纳米级的复合超硬涂层。加之中频脉冲电源的出现,可以在复合涂层中加上C3N4DCI等高电阻涂层。因此,非平衡磁控溅射匹配中频脉冲电源可以获得反应充分,涂层组织细密、层间结构达到纳米级间隔、包含SiO2Al2O3AlN等绝缘的多层复合超硬涂层。


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