物理气相沉积复合超硬涂层技术

发布日期：2018-05-03 00:00 来源：http://www.shanghaihuizhong.com 点击：

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在物理气相沉积中，由于电弧离子镀的金属离化率高，容易进行反应沉积，沉积速率高，是沉积复合涂层的主要技术之一。但涂层组织中有较大的熔滴，难于沉积较均匀涂层。磁控溅射的沉积速率比电弧离子镀小，金属离化率低，沉积化合物涂层的难度较大，但涂层组织细密，可以将晶格的周期调制得更小，从而获得纳米级的复合超硬涂层。加之中频脉冲电源的出现，可以在复合涂层中加上C₃N₄、DCI等高电阻涂层。因此，非平衡磁控溅射匹配中频脉冲电源可以获得反应充分，涂层组织细密、层间结构达到纳米级间隔、包含SiO₂、Al₂O₃、AlN等绝缘的多层复合超硬涂层。

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